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腕表品鉴:pvd是什么意思

简介PVD镀金是什么解释:PVD是英文PhysicalVaporDeposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低...

PVD镀金是什么

解释:PVD是英文PhysicalVaporDeposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分。喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现。pvd就是真空离子电镀,会掉色,是会随着佩戴时间的增加慢慢的变淡。

请问pvd是什么工艺

1、PVD(Physical Vapor Deposition)是物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

2、PVD(Programmable Voltage Detector),即可编程电压监测器。应用于STM32ARM芯片中,作用是监视供电电压,在供电电压下降到给定的阀值以下时,产生一个中断,通知软件做紧急处理。当供电电压又恢复到给定的阀值以上时,也会产生一个中断,通知软件供电恢复。

扩展资料:

PVD技术出现于,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。

与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

参考资料来源:百度百科-PVD(物理)

参考资料来源:百度百科-PVD(计算机)

pvd是什么意思

物理气相沉积的简称。

物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 

物理气相沉积的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

扩展资料

主要优点和特点如下:

1、镀膜材料广泛,容易获得:包括纯金属、合金、化合物,导电或不导电,低熔点或高熔点,液相或固相,块状或粉末,都可以使用或经加工后使用。

2、镀料汽化方式:可用高温蒸发,也可用低温溅射。

3、沉积粒子能量可调节,反应活性高。通过等离子体或离子束介人,可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜,提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。

4、低温型沉积:沉积粒子的高能量高活性,不需遵循传统的热力学规律的高温过程,就可实现低温反应合成和在低温基体上沉积,扩大沉积基体适用范围。可沉积各类型薄膜:如金属膜、合金膜、化合物膜等。

5、无污染,利于环境保护。

物理气相沉积技术已广泛用于各行各业,许多技术已实现工业化生产。其镀膜产品涉及到许多实用领域。


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